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제3회 K-ALD(Korea Atomic Layer Deposition) Workshop 성황리에 개최
관리자   07.05.25 5312
올해로써 세 돌을 맞이하는 K-ALD 학회가 2007년 5월 18일 오전 9시부터 한양대학교 박물관 세미나실에서 진행되었다. ALD 기술은 나노박막 증착기술에 있어 근간이 되는 공정으로, 반도체와 차세대 나노소자 공정개발의 가장 핵심적인 기술 중의 하나이다. K-ALD는 세계적인 흐름을 주도하는 한국 산학연의 활발한 연구 활동에 발맞춘 한양대와 UP Chemical 단독의 전폭적인 후원의 결과물로 국내 ALD 관련 유일한 학회이며, 가장 규모가 큰 대표적인 학회이다.
지난 2005년을 시작으로 작년까지 2회에 걸쳐 성공적으로 한국 ALD Workshop을 개최하였으며 2007 K-ALD 역시 한양대의 긴밀한 협력과 UP Chem의 아낌없는 지원 아래 지난 2회보다 더욱 많은 참가자들의 관심과 기대 속에서 개최되었다.
 
 
< 올해로 3돌을 맞은 K-ALD Workshop이 개최된 한양대학교 박물관 모습 >
 
< 2007 K-ALD를 성공적으로 이끈 두 주역 >
 
오전 9시부터 한양대학교 전형탁 교수의 인사말로 시작된 이번 K-ALD에서는 특히 유피케미칼의 신현국 박사(대표이사)의 New Precursor를 주제로 한 발표가 많은 참가자들의 뜨거운 호응을 불러일으키기도 하였다. 300여명의 참석자들이 궂은 날씨에도 불구하고 강의 시작부터 끝까지 자리를 지키고 있는 모습을 보니 그 열정에 빗줄기마저 수그러지는듯 하였다. K-ALD를 준비하고 참석해주신 많은 분들의 밝은 표정에서 앞으로 계속해서 발전해나갈 UP의 모습과 K-ALD의 밝은 미래가 그려져 더욱 뜻 깊고 소중한 시간이었다.
< New Precursor에 대한 발표를 하고 계신 신현국 박사님((주)유피케미칼 대표) >

< 2007 K-ALD Workshop을 성황리에 마친 것을 기념하며 >
 




VARIAN, 400-MR (NMR) 기기 도입
2007년 봄 워크샵 - 하나로 새롭게 도약하며